ATMI, Inc. 和安集微电子（上海）有限公司（以下简称“安集微电子”）宣布向市场推出 IDEAL Clean高性能清洗解决方案。IDEAL Clean是一种优越的蚀刻后灰烬铝清洗化学物质，它具有与以羟胺为基础的化学产品相当或更优的性能，但是拥有它的成本却得以大幅降低。安集微电子首席运营官王淑敏(Shumin Wang,译音)博士表示：“IDEAL Clean 铝清洗工艺的成功推出反映了我们两家公司将重点放在增进客户效率的战略。我们双方的合作结合了世界级标准的质量和性能，以及最新本土的开发、制造和支持。这种独一无二的结合使我们能够让客户享受到成本非常低的好处，同时带来更优越的价值。ATMI 与安集微电子的合作使得我们的势头不断增强，让我们能够以更多的化学产品赢得更广泛的客户群。这些化学产品不仅能增强性能，而且还能改进工艺解决方案，从而使我们客户的整体运营成本更低。”
ATMI 的表面预处理部门主管 John Bubel 表示：“IDEAL Clean 解决方案的推出是迈进铝清洗领域的一次意义重大的事件，它为我们的客户提供了比现有产品更多的一种选择。与以羟胺的基础的产品相比，IDEAL Clean 的工艺性能卓越而且取得成本大幅降低，IDEAL Clean 高性能清洁产品实现了 ATMI 对该市场的工艺效率解决方案的长期承诺。”ATMI 与安集于2005年达成了一项联合开发协议，致力于以铜以及其它集成电路制作工艺的高性能材料进行开发与营销。 |
